光刻机

光刻机作为前道工艺七大设备之首(光刻机、刻蚀机、镀膜设备、量测设备、清洗机、离子注入机、其他设备)，价值含量极大，在制造设备投资额中单项占比高达23%，技术要求极高，涉及精密光学、精密运动、高精度环境控制等多项先进技术。光刻机是人类文明的智慧结晶，被誉为半导体工业皇冠上的明珠。

冲云破雾，国产替代迎曙光。

全球前道光刻机被ASML、尼康、佳能完全垄断,CR3高达99%。在当前局势下，实现光刻机的国产替代势在必行，具有重大战略意义在02专项光刻机项目中，设定于2020年12月验收193纳米ArF浸没式DUV光刻机，其制程工艺为28纳米。考虑到此项目作为十三五目标，未来具有较大的明确性,结合28nm作为当前关键技术节点的性能和技术优势，我们认为光刻机国产替代将迎来新的曙光，尤其是IC前道制造领域，将初步打破国外巨头完全垄断的局面，实现从0到1的突破。

目前在国家政策和集中力量办大事的新型举国体制下，一些地方开始有成果，但需要时间、需要各路资源的支持。

02专项（国务院于"十二五"规划期间推出"极大规模集成电路制造装备及成套工艺"重大专项，简称"02 专项"）的突破：

相关公司如下：

上海微电子：中国唯一浸没式光刻机整机预研项目，通过验收。"90nm 光刻机样机研制" 中国光刻机目前最高水平，通过验收。

华卓精科："浸没式光刻机双工件台产品研制与能力建设"，继 ASML 后全球第二家掌握该技术的公司，在研。

国科精密："高 NA 浸没光学系统关键技术研究"，通过验收。

长春光机所："极紫外光刻关键技术研究"，通过验收。

启尔机电："浸液系统产品研制与生产能力建设"，基础设施建设中。全球第三家具有光刻机浸没式系统研发能力的公司。

科益虹源："浸没光刻光源研发" ，在研。

上海光机所："高 NA 浸没曝光照明系统关键技术研究"，通过验收。"浸没光刻机多通道像质检测技术研究"，在研。预计 2020 年将与整机单位共同完成 28nm 国产光刻机的集成工作。

晶瑞股份："i 线光刻胶产品开发及产业化"，通过验收。"KrF (248nm)光刻胶研发"，在研，打破国外 KrF 光刻胶绝对垄断。

南大光电、北京科华："KrF (248nm)光刻胶研发"，通过通过中芯国际验证，打破国外 KrF 光刻胶绝对垄断。"ArF 光刻胶产品的开发和产业化"，客户测试。"极紫外光刻胶材料与实验室检测技术研究"（合作方：中科院化学所、中科院物理所），通过验收。

芯源微 ："凸点封装涂胶显影、单片湿法刻蚀设备的开发与产业化"，打破国外涂胶显影设备垄断，量产。"300mm 晶圆匀胶显影设备研发"，量产。

福晶科技：全球非线性光学晶体龙头，已具备向 ASML 供货能力。 LBO、BBO 等非线性光学晶体市占率稳居全球第一。

华特气体：全球第四、国内唯一通过 ASML 光刻气认证的公司。

菲利华：国内首家生产 G8 代大尺寸光掩膜板基材公司，打破国外公司的技术垄断

华润微：也是生产光掩膜板基材公司，打破国外公司的技术垄断

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