恒运昌科创板IPO：产品系刻蚀机、薄膜设备核心部件成功助力晶圆厂可持续生产

一家为北方华创、中微公司、拓荆科技等国内半导体设备龙头企业提供核心部件的企业，正在向科创板发起冲击。

近日，科创板受理了恒运昌的IPO申请。该公司主要围绕等离子体工艺打造产品矩阵，自研产品包括等离子体射频电源系统、等离子体激发装置、等离子体直流电源等；同时还为晶圆厂提供等离子体射频电源系统原位替换及维修等技术服务。

目前，恒运昌的产品获得了市场的广泛认同，客户包括拓荆科技、中微公司、北方华创、微导纳米、盛美上海等国内头部半导体设备商，并已成为薄膜沉积、刻蚀环节国内头部设备商的战略级供应商。

等离子体工艺设备：构成刻蚀机、薄膜设备的核心部件

众所周知，刻蚀机、薄膜设备是半导体制造的核心设备。但是你知道刻蚀机、薄膜设备的核心零部件有哪些么？等离子体工艺设备就是其中一种。

在介绍离子体工艺设备前，我们必须了解什么是等离子体。这是在特定条件下气体电离而产生的区别于固、液和气三态的物质第四态，闪电、火焰、太阳就是等离子体。等离子体由带电粒子、中性粒子、自由基等组成，具有独特的光、热、电物理特性以及高活性、高能量的特点。

其中，刻蚀主要利用等离子体中的带电离子，在电场中加速获得了方向性，从而实现更精准地方向性刻蚀，能够在极小范围内有选择性地去除目标材料而不损坏其他部分；还能实现刻蚀的垂直形貌和高深宽比的刻蚀通孔。

薄膜沉积主要利用等离子体的高活性，从而降低温度，加快化学反应的速率，避免高温对晶圆的损伤和副反应的出现。并且还有提升薄膜沉积速率，实现良好的附着性、超薄均匀镀膜、高台阶覆盖率的工艺效果。

当然，等离子体工艺设备的应用领域并不止刻蚀和薄膜沉积两个环节，还包括离子注入、清洗去胶、键合等环节以及光伏电池片的薄膜沉积、显示面板镀膜、精密光学镀膜、常压等离子体清洗等工业生产环节。

成功替代海外设备 为晶圆厂的可持续性生产提供保障

恒运昌招股书显示，等离子体射频电源系统在晶圆厂使用过程中会出现老化、故障等问题，需要及时进行维修、更换。但由于一些众所周知的原因，国内主要晶圆厂被列入实体清单，无法向原海外设备供应商申请采购备件或维修服务，导致生产可持续性出现较大风险。

恒运昌强调，针对国内晶圆厂已断供或难以维修的等离子体射频电源系统产品，公司承接了中芯国际、长江存储等晶圆厂的进口等离子体射频电源系统的原位替换或维修任务，为国内晶圆厂的稳定运转和生产可持续性提供了坚实的保障。

具体来说，2021年，恒运昌向中芯国际交付Bestda等离子体射频电源，实现了国内首颗刻蚀设备用射频电源的原位替换。2022年，恒运昌Aspen系列等离子体射频电源和Basalt系列匹配器在中芯国际晶圆产线上替代了CVD（化学气相沉积）工艺设备中的海外等离子体射频电源及匹配器产品。

除了为晶圆厂提供替换服务，恒运昌的等离子体工艺设备还被广泛用于中微公司、拓荆科技的新一代薄膜设备、刻蚀机中。

近年来，恒运昌在等离子体工艺设备方面取得了巨大的进步，公司Bestda系列和最新一代产品Aspen系列均已通过验证并量产，其中Bestda系列可支撑28纳米制程，最新一代产品Aspen系列可支撑14纳米先进制程，并已达到与MKS、AE次新一代产品同等的性能指标。

恒运昌强调，2023年，公司最新一代的Aspen系列等离子体射频电源和Basalt系列匹配器已经随拓荆科技新一代P系列薄膜沉积设备、中微公司新一代N系列刻蚀设备交付国内头部晶圆厂，目前已经进入晶圆生产的正式验证。