光刻机巨头阿斯麦联手台积电三星英特尔,推进新一代EUV光刻技术应用,关注半导体设备ETF易方达(159558)
截至9:39,中证半导体材料设备主题指数(931743)涨1.01%;权重股,中微公司涨0.55%,北方华创跌0.13%,长川科技涨0.7%,拓荆科技涨0.94%,华海清科涨0.77%,中科飞测跌0.08%,江丰电子涨1.83%,华峰测控涨1.11%,芯源微涨1.95%,沪硅产业涨0.96%;该指数近1年涨127%。
半导体设备ETF易方达(159558)跟踪中证半导体材料设备主题指数。
消息面上,9月8日,光刻机巨头阿斯麦宣布,公司与台积电、三星电子及英特尔推进下一代高数值孔径(High NA)极紫外光刻(EUV)技术应用。据悉,此次合作旨在推动12英寸光掩模技术的发展,以取代几十年来广泛使用的6英寸光掩模格式。
中信证券研报指出,受益于下游大客户积极的资本开支指引以及扩产计划,半导体设备需求有望维持强劲。预计2026年/2027年全球晶圆制造设备(WFE)市场规模将分别同比增长26%/35%至1,478/1,995亿美元。
半导体设备ETF易方达(159558)紧密跟踪中证半导体材料设备主题指数,该指数聚焦半导体设备与半导体材料领域,在国产化趋势中具备较强弹性。
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