光刻机国产替代刻不容缓,产业链与投资机会梳理
美方声称要求荷兰AMSL禁止向中方出口光刻机技术,周三A股全线下跌,然而半导体却逆势上涨,和三年前一样,本次上涨的主要逻辑就是国产替代。
光刻机为什么这么重要?
芯片制造需要用到的核心设备:光刻机、刻蚀机、镀膜设备、量测设备、清洗机、离子注入机以及其他设备,光刻机主要作用为将掩膜版上的芯片电路转移到硅片,是IC制造最为核心环节。
光刻机由ASML、佳能和尼康三家公司垄断,三家公司占据全球99%的市场份额,其中ASML更是占到60%以上的市场份额。
国产光刻机的代表是上海微电子,28nm光刻机已经试片,交付在即,但距离实现国产替代,还有很长一段路要走,上海电气、张江高科参股上海微电子
A股上市公司中,奥普光电是正宗的光刻机概念股,做到了90nm工艺。此外,晶瑞电材、英唐智控等有外购光刻机,也可以关注。
光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。
光刻机由测量台、曝光台、激光器、能量控制器、光束形状设置、遮光器、能量探测器、掩模版、掩膜台、物镜、硅片、内部封闭框架、减振器等零部件构成。
光刻机产业链主要包含两个核心部分:
1)光刻机核心组件,包括光源、物镜、双工作台、浸没系统等关键子系统;
2)光刻配套设施,包括光刻胶、光掩模版、特种气体、涂胶显影设备等。
具体上市公司:
1)光源系统:福晶科技
2)物镜系统:奥普光电
3)双工作台:华卓精科(未上市)
4)光刻胶:南大广电、容大感光、晶瑞电材
5)光掩模版:菲利华、清溢光电。
6)特种气体:雅克科技、华特气体、昊华科技。
7)后道封装:长电科技、晶方科技、通富微电。
A股中,与阿斯麦AMSL进行合作的上市公司:
蓝英装备:为提供精密清洗解决方案。
福晶科技:曾在互动平台回复,通过欧洲代理和ASML签署保密协议,提供部分产品。
赛微电子:曾在互动平台回复,为全球光刻机巨头厂商提供透镜系统MEMS部件的工艺开发与晶圆制造服。
华特气体、凯美特气:光刻气获得阿斯麦等巨头认证。
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